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N型SIC和P型SIC的歐姆接觸的基本原理?
來(lái)源:音特電子 發(fā)布日期:2023-06-18 瀏覽次數(shù):1744次
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N型碳化硅和P型碳化硅的歐姆接觸的基本原理是通過(guò)合適的金屬材料與碳化硅材料之間的電子轉(zhuǎn)移來(lái)建立接觸電阻盡可能小的電氣連接。

  • 對(duì)于N型碳化硅,其導(dǎo)電性主要由額外的自由電子貢獻(xiàn)。當(dāng)金屬與N型碳化硅接觸時(shí),金屬中的自由電子可以輕易地進(jìn)入N型碳化硅中,形成電子注入,使碳化硅形成具有低電阻的接觸。
  • 對(duì)于P型碳化硅,其導(dǎo)電性主要由空穴貢獻(xiàn)。當(dāng)金屬與P型碳化硅接觸時(shí),金屬中的自由電子與P型碳化硅中的空穴結(jié)合,形成電子-空穴對(duì)而減弱空穴濃度,這樣就可以形成具有低電阻的接觸。
  • N型和P型SIC的歐姆接觸的基本原理是通過(guò)金屬與碳化硅之間的電子轉(zhuǎn)移來(lái)建立具有低電阻的接觸。

AL(鋁)基金屬在SiC(碳化硅)中被稱(chēng)為有效受主元素,是因?yàn)樗哂幸韵绿攸c(diǎn):

     1. 高自由缺陷濃度:在SiC材料中,鋁原子可以導(dǎo)致高自由缺陷濃度。這是因?yàn)殇X原子可以在SiC晶格中形成額外的局部缺陷,例如鋁空位和局部雜質(zhì)能級(jí)。這些缺陷和能級(jí)提供了額外的能量狀態(tài),增加了電荷載流子的擴(kuò)散、復(fù)合等過(guò)程,從而影響了材料的電性能。

     2. 摻雜效果:鋁的摻雜可以改變SiC的電子濃度類(lèi)型,使其由N型(導(dǎo)電性由自由電子貢獻(xiàn))轉(zhuǎn)變?yōu)镻型(導(dǎo)電性由空穴貢獻(xiàn))。這種摻雜效果使得鋁在SiC中具有重要的應(yīng)用價(jià)值,例如制備雙極型功率器件。

      總之,鋁在SiC中是有效受主元素,這是因?yàn)樗梢砸敫咦杂扇毕轁舛?,并且改變材料的電子濃度?lèi)型,從而對(duì)SiC材料的電性能產(chǎn)生重要影響。

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